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集成电路用去离子水设备选型(半导体芯片用什么样的DI水设备?)

作者:净心来源:集成电路去离子水机网址:/

半导体行业用水要求非常高,普通的去离子水一般只要求达到18.2M,而对水中的TOC有机碳,颗粒要求不高。而集成电路芯片实验用水除电阻率要达到18.25M以外,还对TOC要求小于10PPB以下,金属离子含量小于PPT级别。

如:以下为某半导体公司的水质要求:

电阻率:18M(25)

可溶硅: 2PPB

溶解氧≤25PPB

T0C10PPB,(仟净公司可根据用户要求做到2PPB以下)。

颗粒≥(0.05um)1

出水压力≥3.5Kg/cm2

细菌≤1cfu/1

离子(NaC1Fe/mL CuA1)3ppt

仟净开发了一系列集成电路用去离子水机,根据集成电路半导体行业要求开发,具体选型方式如下:

小型实验室系列:C2-H系列去离子水机(DI水设备); 10-30L/H

中试型设备系列:XF-H系列去离子水机; 50-300L/H);

量产型设备系列:QS-H系列去离子水机;(0.5T~10T/H)

工程机系列:大于10T/H的设备,则按工程机独立定制。技术咨询18938163036萧工。

以下为C2-H系列去离子水机,实验室型。

集成电路实验室去离子水机

以下为XF2中试型去离子水机:

XFH型集成电路去离子水设备


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